第767章 科學家們的呐喊：前沿不當人了是吧？（第3/4頁）

算是某種基操。

有意思的是，勝遇實驗室的研究並不怎麽花錢，除了技術儲備和基礎研發環境支出外，最大頭的支出居然是研發人員的薪資……

聽完匯報，腦子裏也開完小差的方總想了想，道：“下午召開一次聯合會議，需要有長光所等一些合作單位的參與。”

“我來協調。”行政主管連道。

“我會幫忙。”王院士跟著說道。

“……”

午後兩點，長光所副所長張學君等人，大部分合作的科研單位代表都來到了梼杌實驗室。

方年坐在居中位置。

神態輕松自如。

令人不敢忽視。

張學君也想起了兩年多前的那次會面，實在沒想到再見面時會是這樣的光景。

方年目光掃過與會眾人：“各位下午好，我是方年，初次見面，請多關照。”

“方總好。”

“方總太客氣了。”

“……”

簡單的寒暄過後，方年直截了當道：“恕我冒昧，為了不耽誤大家更多的時間，我就開門見山了。”

“廬州前沿正在建設一條12寸晶圓測試線，為了配合這條測試線，梼杌這邊將全面進軍EUV光刻研究，希望大家能給予必要支持。”

此話一出，眾人皆愣。

包括梼杌的王院士。

“EUV？”張學君挑了下眉，斟酌著說道，“方總，冒昧問一句，你好像對極紫外情有獨鐘？”

“理論上只有最尖端光刻需要用到極紫外光刻，DUV（深紫外）借住浸入式方案理論上可以做到7nm光刻，似乎沒必要全面進軍EUV？”

“……”

在座眾人都是懂行人士，紛紛發表了各自的看法。

比如DUV技術積累等等問題。

畢竟梼杌實驗室名字裏的‘半導體設備’五個字有85%是針對：

集成電路前道制造光刻機。

光刻機其實是個泛稱，內裏可細分為前道制造、後道封裝、應用於TFT（薄膜晶體管）的光刻、應用於中小基底先進光刻等的光刻機。

一般大眾認知範圍內的光刻機是集成電路前道制造光刻機……

聽著大家的不同意見，方年微微一笑：“DUV不是有各位在努力嗎？”

“前沿不能白叫前沿這個名字，而且EUV這個領域基本上屬於贏家通吃，很符合前沿的目標。”

王院士立馬道：“可是ASML的EUV實驗機去年就運到了台積電使用。”

“……”

“這個領域需要很龐大的投入。”

“……”

方年當然知道。

他更清楚的是，全球範圍內EUV光刻機的差距其實不太大。

要麽就是沒想過，要麽就是放棄了。

唯一一家至死不渝堅持到底的是ASML。

有意思的是，最終水準其實取決於砸錢程度以及對技術整合的程度。

當然，ASML快得很，06年開始投入，去年推出了首台EUV工程原型機，而且還有台積電這個大客戶在使用、驗證、反饋。

但……

ASML很缺錢，方年曾看過的所有與ASML有關的媒體報道都提到了ASML在2012年7月份發起的客戶聯合投資計劃。

這份計劃募集了超過50億歐元的資金，其中一半用於EUV光刻研發。

且因為始終未實現EUV光刻機的大規模量產，以至於參與這份計劃的三星、台積電、英特爾先後減持了股份。

錢這東西，前沿也缺。

但前沿在某種意義上可以不缺錢……

等眾人討論完，方年淡然道：“前沿計劃今年內首批投入10億美元，包括但不限於面向全球收購相關企業、專利授權、研發投入；

明年起的三年內前沿一家的年平均純研發投入不低於50億人民幣，後續視情況遞增。”

會議室為之一靜。

方年繼續說道：“其次，梼杌會牽頭促成一個大的泛技術聯合投資管理單元，梼杌只承擔其中一部分研發工作和大頭資金投入，每個單位做自己最擅長的事情；

比如長光所在光相關工作上努力，比如上微電來做總成。”

“協調前沿來搞定，包括其他單位的出資力度等，各位考慮一二給個答復。”

張學君：“……”

“……”

最後有人弱弱的道：“那DUV呢？”

聞言，方年眼皮微動，面帶微笑：“差點忘了，廬州前沿需要一台國產的高精度DUV光刻機來進行實驗，最好是實驗室產品，各位幫幫忙？”

“……”

張學君斟酌著接過話頭：“忙可以幫，有個實驗室有台很不好用的90nm DUV光刻機可以免費借給前沿用；

不過……”

“我聽聞國外有些個企業啊，喜歡列出幾百上千項難題，然後督促科學家不停努力……”

張學君話還沒說完，方年笑著望了過去，打斷道：“看樣子張所消息很靈通啊，對我們前沿內部的一些作風都有了解。”