第一百七十九章 新的模式（第2/3頁）

從華國的角度出發，周新已經初步證明了自己的能力和意願。

他們只等著周新所說的手機出來，如果matrix手機能夠把整個產業鏈捏合在一起，形成雪球效應，那麽華國會盡一切可能幫助周新掃清內部的阻力。

從申海的角度出發，現在的進度已經足夠讓他們滿意了。

在上級的督促下，華虹半導體將新芯光刻機的樣機測試工作當成這段時間的首要大事。

新芯光刻機的技術來自於尼康，配件幾乎全部來自國外，目前只是技術的整合方，缺乏原創的技術。

即便如此，已經是華國在芯片領域的難得突破了。

一個是因為其他華國企業不會把錢投到這個領域，不賺錢還要虧錢，看不到希望。

唯一有可的就是官方組織攻堅，官方攻堅就決定了不會從國外購買技術，純自研需要花的時間太久，等你把光刻機的樣機制造出來後，早就落後國外好幾代了。

樣機做出來，還需要測試，光刻機進入到芯片制造廠商的生產環節中，對方對良品率有極高的要求。

因為芯片代工是一個對精度控制要求非常高的行業。軍用芯片對成本不敏感，自研成本高、良品率低，無所謂。

民用芯片則不然，良品率關乎到芯片代工企業的生命線，良品率低意味著你的成本高，建廠成本已經夠高了，在芯片生產環節中如果成本還高的話，靠什麽盈利？

全靠自研－技術落後－技術落後廠商不願意使用－無法進入生產環境－良品率低，可以說是惡性循環。

華國摸索了很長一段時間，才意識到半導體領域得靠市場化的力量，靠學術界研發是不符合客觀規律的。

後世如果不是ASML不賣最先進制程的光刻機給華國，華國的光刻機大概率是會一直落後下去。

“我們購買的主要是尼康NSR－S201A這個型號的光刻機技術。

這是世界上第一台超過250納米的準分子激光步進器型號。193nm制程的ArF系統針對130納米區域。

我們對它進行了優化，采取基於透鏡的掃描步進器來達到滿足半導體芯片縮小特征尺寸和擴大曝光面積的雙重需求的目的。

在測試過程中，新芯光刻機的制程已經接近該技術的極限值了，只是在芯片良品率上還有很大的提升空間。”林本堅在向申海方面做匯報的時候說。

新芯光刻機購買的尼康技術，是1995年推出市場，然後優化後的二代技術。

同樣是光刻機，並不代表把技術賣給你，你就照著造出來，造出來你也很難達到對方的效果。

很簡單的例子，同樣的教材、同樣的輔導資料、同樣的老師，有的同學能考100分，有的同學連60分都考不了。

尼康的NSR－S201A推出的第一年就在全球銷售超過200台，經過了尼康工程師和芯片制造廠商們的長期生產驗證和不斷優化。

如果不是矽谷和華爾街共同選擇了ASML，尼康光刻機未必會淪落到市占率不足1％的下場。

新芯光刻機能夠在半年的時間，復制出一個樣品已經遠超周新預期了。

周新在得到消息後，心想我沒有系統，不會林本堅有系統吧？

申海方面的領導也沒有問，為什麽不買最先進的技術，這種低級問題。

“我們什麽時候能夠趕上尼康的良品率？”

“這需要看我們和華虹半導體的配合進度，而且不能只是實驗室制造，我們需要真正進入到生產流程。”林本堅說。

在林本堅看來，即便免費把新芯光刻機賣給華虹半導體，都要把良品率提高上去。

HP CD全稱是half－pitch CD，是專門用於描繪光刻機領域光刻分辨度的技術指標。

比如說193i光刻機，HP CD極限值等於38 nm.而采取EUV NXE 3400B的光源，可以做到極限13nm。

node CD則完全不同於HP CD。是一個半導體器件的概念，網上媒體所說的技術節點便是node CD。

一般而言node CD約等於1/2 HP CD。

而在實際制造中，不可能用HP CD極限值來制造，會放寬很多。

提到這個的意思是，即便是相同的光刻機，光源也會影響到制程。

“華虹半導體會全力配合新芯光刻機的工作，我們會盡一切可能配合。”

“其實申海方面圍繞著高精尖產業如何發展在進行研究，包括我本人圍繞這個課題，做過非常多的研究。

不同階段的思潮是不一樣的，我在1980年的時候被組織外派到國外去學習企業管理。

當時的風潮是大企業，一定要有足夠的內部規模和範圍經濟的大公司，這樣的框架才能有所創新，在技術上才能有所突破和發展。

這是約瑟夫·熊彼特的觀點，包括阿爾弗雷德後來的著作《規模與範圍》進一步為這種觀念增加了說服力。