第三百一十六章 彎道超車（第2/3頁）

想必在他主導下，加上新芯的人才儲備和資源投入，重構整個物鏡光路是完全可行的技術路線。”

“不，不是因為林，新芯能改造我們的物鏡光路，是因為有蔡司的全力支持。”傑夫·懷特說，他是尼康新上任的CEO，不知道什麽時候坐到了佐藤和小松正志的旁邊。

小松正志和佐藤博人都連忙和傑夫·懷特打招呼。

簡單的寒暄後，傑夫·懷特說：“雖然不想承認，但是新芯在光刻機領域的研發速度遠超我們的預計。

其中新芯自身從尼康、佳能挖走大量研發人員是原因之一，他們獲得了蔡司的全力配合是更重要的原因。

對於一套新的光學通路來說，沒有蔡司的配合，新芯無論如何也沒有辦法在短短兩年時間做到重構整個物鏡光路。”

傑夫·懷特很無奈，當年尼康做出把技術賣給新芯的時候他還不是尼康的CEO，後來復盤的時候他想過，如果當時他是新芯的CEO是一定不會把技術賣給新芯的。

遠在東京的尼康不會知道Newman有多神奇，只有身在矽谷的傑夫·懷特對這一點最有感觸，自從Newman迅速崛起後，他成為了傑夫·懷特日常生活中聽到最多的名人。

三人的閑聊在林本堅上台後戛然而止，大家都想聽聽新芯的技術路線。

“……我們在晶圓光刻膠上方加了一層，利用這層介質把光源的波長縮短到了150nm以內。因此在不改變光刻機波長情況下，變相擴大了NA，使得193nm波長的能等效出150nm以內的波長！”

“同時因為業內大量的芯片制造廠商們，他們會在一個大的矽片上生產大量不同的芯片，浸潤式光刻法可以避免高掩模成本……”

林本堅在台上通過一些圖片和實驗結果來展示浸潤式光刻機的優越性，講的非常枯燥乏味，大量的技術內容摻雜著寥寥數筆浸潤式光刻機的技術優勢。

即便如此，台下來自半導體不同環節的企業代表們沒有一個走神，大家都在全神貫注的聽著新芯的技術路線。

“我就說浸潤式可行，我們不應該在幹式光刻機上再投入資金了。

浸潤式光刻機才是未來。

我們繼續沿著尼康和佳能的技術優勢路線投入，那麽我們永遠都不會有超過佳能和尼康的機會。

而新芯有這樣的自信，所以他們短短數年時間，就順利實現了超越。”

“現在的問題是新芯已經率先在浸潤式光刻機上實現了突破，一是他們實現了突破，一步慢，步步慢。

我們拿出類似的浸沒式光刻機最快也要一年時間。

一旦新芯把關鍵技術注冊了專利，一年時間都不夠，三到五年都是完全有可能的。

推出新設備之後，需要用1到3年的時間由廠商通力配合適應，新芯比你早量產就比你多了時間去改善問題和提高良率，這會讓我們更加難以超越，一步落後，步步落後。

現在再去走浸潤式，我怎麽感覺死的更快呢？”

ASML的技術專家們很懊悔，曾經他們有機會走浸潤式光刻機路線，但是這個機會被他們內部的決策給親自否了，業內沒有一家走這個技術路線，憑什麽他們能走通？

新芯和蔡司配合研發浸潤式光刻機的消息傳到ASML的耳中時，他們早就確定技術研發方向了。

“沒有辦法，我們只能把這幾年的市場拱手相讓，讓給新芯，等到EUV的時候再翻盤。

這是唯一的辦法了。”

“唉，我們真的還有錢燒這麽多年嗎？

換句話說，如果在EUV光刻機上，新芯又比我們先完成研發怎麽辦？”

“不可能，絕對不可能，我們連原型機都已經研發出來了，新芯沒有參與EUV LLC的前期論證，華國國家層面壓根沒有投入到這一塊的研發中去過。

Newman再厲害他也不可能改變物理世界的規則，如果是互聯網世界，我相信Newman也許能做到。”

EUV也就是極紫外光光刻機，極紫外光的波長只有13.5nm，此時ASML的實驗室已經有世界上第一台EUV的原型機了。

在看到新芯已經突破40nm，ASML的技術專家們把希望放在了EUV上，他們認為EUV將讓這場競爭徹底失去懸念。

準確來說不是他們這麽認為，是業內所有廠商都這麽認為，誰先攻克EUV技術，誰將獲得光刻機領域的最終勝利，霓虹的巨頭們在霓虹產經省的主導下成立了EUVA的研發。

阿美利肯則在能源部的牽頭下成立了EUV LLC，由阿美利肯三大頂尖國家實驗室：勞倫斯利弗莫爾實驗室、勞倫斯伯克利實驗室和桑迪亞國家實驗室去做技術論證。

技術論證完業界來實現。

因此阿美利肯和霓虹都在拼命往EUV裏投入，失利只是暫時的，誰先攻克EUV，這場戰爭才算結束。