第三百一十七章 含金量（第2/3頁）

林本堅對接受采訪不意外，央媽的團隊是和他們搭乘同一個航班來的東京，在來之前央媽那邊就已經和新芯溝通好了。

“好的，陳記者，你問吧。”林本堅很淡定，他剛剛做完介紹，還沒有從前面介紹中的興奮狀態中脫離出來，對於和陳曉夏的溝通，他屬於機械式反應。

“林博士，第一個問題，您覺得新芯的技術突破意味著什麽？對於光刻機領域，對於半導體領域來說？”

“意味著困擾業內長達二十年的光源問題得以解決，從90年代開始，光源波長就從365nm降低到了193nm，但是業界一直無法實現突破。

新芯這次實現了光源波長的突破，從40nm到20nm都將是一馬平川，再無困難點阻礙。

半導體行業依然會按照摩爾定律繼續發展，一直到遇到新的瓶頸。”林本堅說得雲淡風輕，心裏卻很得意。

他在現場看到了之前IBM的老熟人，也是他的對手，IBM光源團隊的負責人鮑裏斯·利普金。

之前在IBM的時候，他堅持深紫外光或者浸潤法來突破193nm波長的限制，而鮑裏斯堅持X光，林本堅後來被IBM“內部退休”和鮑裏斯不無關系。

看到台下的敵人、朋友、對手、合作夥伴，大家雖然有著不同的立場，但是都在為半導體技術又一次進步而鼓掌而高興，這技術進步是自己帶來的，林本堅感到由衷的開心。

陳曉夏不太能體會林本堅的心情，他知道這很重要，不重要央媽也不會派一整個團隊跑過來，他不知道具體有多重要，聽完林本堅的回答後，陳曉夏有了更加直觀的感受。

20年的難題被解決了，這確實是值得大書特書的事情，還是由我們華國的企業實現了這一突破。

“林博士，這次的技術突破你們是如何做到的？如何超越尼康、佳能以及荷蘭的ASML這些公司？

他們在光刻機領域都有著比較悠久的歷史，新芯是如何實現的趕超呢？”

林本堅說：“因為我們選擇了正確的方向。

我們采取的是和其他公司都截然不同的方向。

在上世紀90年代末的時候，當時業內就提出了各種各樣突破193nm波長的方案，其中包括157nm F2激光，電子束投射，離子投射、深紫外光和X光等等。

其中X光、電子束投射、離子投射都太遙遠了，屬於是有這個想法，理論來說可行，材料學的現狀決定了不現實，這些只是前置研究。

最普遍的是157nm的F2激光，尼康、佳能、ASML都走的是這一技術路線。

但是這一技術路線同樣有一些難點要克服，比如說157nm波長的光會被193nm波長光源光刻機的鏡片吸收，他們要重新研制鏡片，光刻膠也要重新研發，他們要克服的困難比我們更多。

我們采用的浸潤法從方向上來說，可以是最簡單的解決方案。我在和Newman討論之後，確定了技術方向，然後朝著這一技術方向前進，沒多久就實現了突破。”

林本堅很自豪，記者則敏銳捕捉到了新聞熱點，和周新相關的都是新聞熱點，陳曉夏連忙問：“林博士，您剛剛提到了Newman，是我所理解的周新嗎？”

林本堅點頭：“沒錯。”

陳曉夏繼續問：“您的意思是周新博士在其中也起到了作用對嗎？”

林本堅笑道：“他是老板，我們走的技術路線和其他公司都不一樣，他得拍板幹不幹。

我在和他介紹了我的想法，以及為什麽我認為浸潤法這一技術路線有戲之後，他當時立刻說好，我同意你的想法，於是我們進一步討論了浸潤法達成了一致，後面新芯開始把所有資源投入到浸潤法的研發中。

我們順利在今年年中的時候完成了驗證，現在新芯的浸潤式光刻機已經開始進入到我們的生產環節中去了。”

陳曉夏下一個問題有些敏感：“我們都知道因為瓦森納協定的緣故，華國的半導體企業一直都無法實現最先進的半導體制程。

一般最少比國外的最先進制程落後一代，上世紀九十年代初的時候甚至落後2.5代。

我想問問新芯實現了光刻機技術的突破後，是否意味著我們不會被瓦森納協定所限制，華國的企業能夠借助新芯的光刻機設備實現比國外還要更先進的芯片制程了呢？”

林本堅想了想然後說：“光刻機只是芯片制造環節中比較重要的一部分，但是不是唯一的環節。

芯片制造還涉及到原材料、清洗設備、薄膜沉積設備、熱處理設備等等。

光刻機的突破能夠提高華國半導體生產企業的上限，但是是否能做到和國外同等的芯片制程我不確定。

這需要看後續實際生產過程中，華國國產設備在其中的表現。”

新芯內部有討論過，能不能借助光刻機的技術突破，讓瓦森納協定解除對半導體設備的出口管制。